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朗为科技公司介绍

杭州朗为科技有限公司成立于2015年,总部坐落在美丽的西子湖畔—杭州,是专业从事磁控溅射阴极和离子源产品的研发、生产、销售的高科技企业。公司产品广泛应用于城市写字楼、工具装饰镀膜、EMI、材料特性分析、柔性材料镀膜、触摸屏等应用场合。目前公司主要产品有:平面圆形磁控溅射阴极,平面条形磁控溅射阴极,圆柱旋转磁控溅射阴极,阳极层离子源,考夫曼离子源,射频离子源等.公司除了自行设计研发高品质产品,同时也代理国际一流品牌同类产品,以扩大视野,掌握产品方向,更好的为客户服务。公司成立三年时间,取得专利数十项,获得杭州市高新技术企业,中小型科技型企业等称号,国家高新企业正在申请中。公司处于创业初期,也是高速发展期,诚邀有想法,有干劲的志同道合人才加入,我们也会通过良好的激励政策创造更好的工作氛围,让大家一起安心创业,共享成果!

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朗为科技招聘概况/发展现状 (3个在线职位)

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说明:杭州朗为科技有限公司招聘需求增长速度怎么样?。曲线上升可能是规模扩张,曲线下降可能是发展平缓或员工留存较好,统计于企业发布的公开数据,仅供参考。

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工商信息

内容由 提供

经营状态: 开业
注册资本: 100万(元)
法定代表: 张奇龙
成立时间:
信用代码: 91330108MA27WD410W
注册地址: 浙江省杭州市余杭区仁和街道粮站路11号1幢2楼216室

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