绍兴雷娜科技 cho 招聘（工资待遇要求）

岗位职责：
1. 负责标准单元库跨工艺移植（Porting）的版图实现，主导迁移流程的规则适配与几何收敛；
2. 时钟单元、高驱动单元、时序单元等复杂 cell 的手工优化与 layout 微调；
3. 主导 Calibre DRC / LVS 收敛，处理 Antenna、Latch-up、density 等依赖经验判断的热点问题；
4. 依据目标 Fab 的 design rule 变更，评估影响面并输出规则差异报告，驱动版图重生成；
5. 在 DTCO 陪跑阶段，基于试验库的 PPA 结果向 Fab 反馈 design rule 建议；
6. 沉淀迁移模板与自动化规则，与团队共同维护自研 Porting 流程；

职位要求：
1. 本科以上学历，电子或电机工程、微电子、物理电子、集成电路等相关专业；
2. 1~2 年以上标准单元库或定制版图（custom layout）经验，独立完成过至少一个完整库或中大型 IP 的版图交付；
3. Virtuoso Layout Edit或 Custom Compiler 会其一即可，其余工具入职培训；具 SKILL 或 Python 脚本化意愿；
4. 有 Calibre DRC / LVS 实作经验，能看懂规则文件；高端 runset 调校与复杂收敛可由内部培训补齐；
5. 理解版图设计规则体系（FinFET / Planar 均可）与 track height、pin access 等基本约束；
6. 具备工艺器件基础概念，能理解 layout-dependent effect 对器件特性的影响；
7. 有 28nm 及以下节点标准单元库经验、跨 Foundry 移植实际项目经验、7T / 9T 高密度库或低功耗库的设计经验、或特色工艺器件版图经验者优先；